應(yīng)用范圍：
一、玻璃：平板玻璃、浮法玻璃、玻璃制品（玻璃罐、玻璃瓶、玻璃管等）、光學(xué)玻璃、玻璃纖維、玻璃儀器、導(dǎo)電玻璃、玻璃布及防射線特種玻璃等的主要原料。
二、陶瓷及耐火材料：瓷器的胚料和釉料，窯爐用高硅磚、普通硅磚以及碳化硅等的原料。
三、建筑：混凝土、膠凝材料、筑路材料、人造大理石、水泥物理性能檢驗(yàn)材料（即水泥標(biāo)準(zhǔn)砂）等
四、化工：硅化合物和水玻璃等的原料，硫酸塔的填充物，無定形二氧化硅微粉
五、機(jī)械：鑄造型砂的主要原料，研磨材料（噴砂、硬研磨紙、砂紙、砂布等）
六、電子：高純度金屬硅、通訊用光纖等
七、橡膠、塑料：填料（可提高耐磨性）
八、涂料：填料（可提高涂料的耐候性）。
九、冶金：硅金屬、硅鐵合金和硅鋁合金等的原料或添加劑、熔劑 。
十、航空、航天：其內(nèi)在分子鏈結(jié)構(gòu)、晶體形狀和晶格變化規(guī)律，使其具有的耐高溫、熱膨脹系數(shù)小、高度絕緣、耐腐蝕、壓電效應(yīng)、諧振效應(yīng)以及其特的光學(xué)特性。
常用包裝為25KG和50KG.

干法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉、精制石英粉二種等級。因石英石礦料從山上開采下來的時(shí)候，本身帶有黃褐色的表皮。挑選出較小的石英石礦料直接破碎篩分的產(chǎn)品稱普通石英粉，表觀呈現(xiàn)黃褐色與白色相間，其優(yōu)點(diǎn)是價(jià)格便宜，缺點(diǎn)是雜質(zhì)較多，故多用于建筑行業(yè).挑選出大的礦料，經(jīng)過人工去除表面黃褐色外皮，再加工而成的就是精制石英粉了，其表觀呈現(xiàn)白色，亮晶晶，如同白砂糖一樣。因加工過程費(fèi)時(shí)費(fèi)料，故價(jià)位較高。
　　水法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉和精制石英粉。把較小的石英石礦料加工成普通石英粉，把大的石英石礦料加工成精制石英粉。與干法石英粉相比，水法石英粉因在生產(chǎn)過程，較少產(chǎn)生設(shè)備鐵以及用水沖走雜質(zhì)，如含鐵量及雜質(zhì)都少于干法石英粉，但因其加工較為費(fèi)工費(fèi)料，故價(jià)位較高。
　　石英粉不分等級，只分規(guī)格。因其具備白度高，無雜質(zhì)、鐵量低等特點(diǎn)，故應(yīng)用范圍廣.

不規(guī)則狀石英粉用顯微鏡來看其實(shí)呈現(xiàn)多角型，是將石英粉直接研磨的結(jié)果；球狀石英粉是將不規(guī)則狀石英粉置于接近融點(diǎn)的高溫，讓原來存在不平整的邊邊角角融化，然后再降溫冷卻，就可以得到球狀石英粉。

超細(xì)石英粉可以達(dá)到3000目，國內(nèi)少數(shù)幾家生產(chǎn)，此類產(chǎn)品應(yīng)用基本都屬于精細(xì)化工，屬于戰(zhàn)略資源。石英粉具體介紹如下：　　
由高純石英粉經(jīng)的超細(xì)研磨工藝加工而成的產(chǎn)品我們一般稱之為硅微粉，也可稱為超細(xì)石英粉,是用途極為廣泛的無機(jī)非金屬材料.具有介電性能、熱膨脹系數(shù)低、導(dǎo)熱系數(shù)高、懸浮性能好等優(yōu)點(diǎn).因其具有優(yōu)良的物理性能、的化學(xué)穩(wěn)定性、特的光學(xué)性質(zhì)及合理、可控的粒度分布。

硅微粉是由天然石英（SiO2）或熔融石英（天然石英經(jīng)高溫熔融、冷卻后的非晶態(tài)SiO2）經(jīng)破碎、球磨（或振動(dòng)、氣流磨）、浮選、酸洗提純、高純水處理等多道工藝加工而成的微粉。

微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進(jìn)行氯化反應(yīng)，反應(yīng)氣體經(jīng)旋風(fēng)分離除去雜質(zhì)，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達(dá)到7個(gè)“9”以上、雜質(zhì)含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進(jìn)行重結(jié)晶，用酸除去雜質(zhì)，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導(dǎo)體用硅，還要將其轉(zhuǎn)化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進(jìn)行進(jìn)一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進(jìn)行還原。