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臺(tái)積電和三星都宣布采用深紫外(EUV)光刻技。
臺(tái)積電已經(jīng)投資新建5nm生產(chǎn)線，2020年后將啟動(dòng)建設(shè)3nm制程工廠。三是圍繞摩爾定律的產(chǎn)品技術(shù)創(chuàng)新活躍。在半導(dǎo)體技術(shù)繼續(xù)延續(xù)摩爾定律發(fā)展的同時(shí)，以新材料、新結(jié)構(gòu)、新器件為特點(diǎn)的摩爾定律為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供了新的發(fā)展方向。

驅(qū)動(dòng)IC，