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對比幾個真空鍍膜機的檢漏方法:
氦質(zhì)譜檢漏該工藝是真空鍍膜機真空檢漏技術(shù)里不可缺少的一種技術(shù),因為檢漏率,簡單易使用,儀器設(shè)備反映靈敏,,不容易受別的氣體的影響,在檢漏中獲得了廣泛運用。氦質(zhì)譜檢漏儀是依據(jù)質(zhì)譜學(xué)基本原理,用氮氣作示漏氣體做成的氣密性檢測儀器。由離子源、解析器、回收器、冷陰極水解規(guī)構(gòu)成的質(zhì)譜分析室和吸氣系統(tǒng)及電氣一部分等構(gòu)成。質(zhì)譜分析室里的鎢絲發(fā)送出去的電子,在房間內(nèi)不停地震蕩,并與房間內(nèi)空氣和經(jīng)漏孔進入到屋內(nèi)的氦氣互相撞擊使其水解成共價鍵,這種氦離子在加快靜電場的作用下進入到磁場,因為洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),產(chǎn)生圓弧狀軌道,更改加速電壓可使不一樣品質(zhì)的離子通過磁場和接受縫抵達接收極而被檢驗。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在檢漏中經(jīng)常使用的這兩種方式。采用真空法檢漏,鍍膜機不需要停機,直接在真空泵的旁路利用波紋管接入檢漏儀,在懷疑有漏的地方噴氦氣,即可完成檢漏。
有些真空鍍膜機真空計的讀數(shù),與氣體種類有關(guān),比如熱偶計,電離真空計。選用適當(dāng)?shù)臍怏w或液體做示漏物質(zhì),這些真空計便成了探測器,一般鍍膜機上都有真空計,使用起來很方便,也是常用到的一種檢漏方法。用于熱偶計的示漏物質(zhì)有,二氧化碳,丁烷,酒精等熱偶計反應(yīng)較慢,觀察要很仔細。用于電離計的示漏物質(zhì)有氦,氬,酒精等。
真空系統(tǒng)是鍍膜機達到工藝條件的基本設(shè)備,其真空度達不到或者達到真空度速度慢,都有可能是由于存在漏點所致,所以真空卷繞鍍膜機設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏,主要用負壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機的真空系統(tǒng),在可能泄漏地方噴氦檢漏。
真空鍍膜機的工作原理如下:
在鍍膜領(lǐng)域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此,當(dāng)評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形,這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:,不同次生長的樣品,儀器的狀態(tài)不同,以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不僅僅是厚度;其次,真空鍍膜實驗裝取樣品需要重新進行真空的獲得,非常耗時。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。
因此,提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng),本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合,實現(xiàn)蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響,保障了、大面積有機光電器件和電路的制備。
真空鍍膜機工作的環(huán)境要求:
真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。
這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣,要達到預(yù)期的真空度很難的。眾所周,油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當(dāng)大量抽除可凝性氣體時,對泵油的污染會更加嚴重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。
長期回收真空鍍膜機鍍膜生產(chǎn)線設(shè)備。
主要由真空鍍膜機室、真空抽氣機組及電柜(控制電柜、電子槍電柜)組成,其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?,材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護、光路的檢修與維護、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。
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