穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過(guò)程中團(tuán)聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時(shí)，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應(yīng)不同材料的拋光需求。

在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對(duì)材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時(shí)更換或補(bǔ)充添加。

注意事項(xiàng):

●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。

●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間，稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。

●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后，去除率下降，由單位確定是否換新液。

●拋光液的拋光效率，無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液具有以下性能：
1、晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻，懸浮穩(wěn)定性好；
2、磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；
3、研磨，拋光效果好，研磨效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)二氧化硅等軟質(zhì)磨料，表面光潔度優(yōu)于白剛玉的拋光效果，切削力強(qiáng)、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。
4、適用范圍廣，拋光后容易清洗。

氧化鋁拋光液是一種應(yīng)用在金相拋光中的磨料。其實(shí)，它的作用還遠(yuǎn)不止于此。它還可以去除樣品表面肉眼不可見(jiàn)的表面變形層，尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD 技術(shù)檢測(cè)或是評(píng)定樣品時(shí)。對(duì)于一些做鑄鐵、鋼、不銹鋼、銅、聚合物、礦物質(zhì)、微電子、貴金屬等金相樣品制備的實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)，氧化鋁拋光液是的一種磨料。