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全自動(dòng)氧化擴(kuò)散爐

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  • 福潤德擴(kuò)散爐-廠家-支持定制
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    09月27日
  • 氧化擴(kuò)散爐
    面議
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    11月08日
  • 微控?cái)U(kuò)散爐
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月08日
  • 微控?cái)U(kuò)散爐。青島發(fā)貨，可做全國，支持定制
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月04日
  • 高溫?cái)U(kuò)散爐爐內(nèi)溫度均勻性檢測(cè)——CMA/CNAS資質(zhì)檢測(cè)
    面議
    高溫?cái)U(kuò)散爐檢測(cè)是針對(duì)高溫?cái)U(kuò)散爐的溫控性能、工藝適配性及安全運(yùn)行指標(biāo)開展的分析技術(shù)。通過性能測(cè)試與參數(shù)核驗(yàn)，把控關(guān)鍵指標(biāo)是否達(dá)標(biāo)，直接關(guān)系半導(dǎo)體晶圓摻雜、光伏硅片擴(kuò)散等工藝的產(chǎn)品質(zhì)..
    09月19日
  • 立式擴(kuò)散爐-立式退火爐
    888.00元
    用途： 立式擴(kuò)散爐用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝過程中的高溫?cái)U(kuò)散，燒結(jié)，退火等工藝。該系統(tǒng)具有儀表控制系統(tǒng)，具有高密封性和抗腐蝕性的高純氣路系統(tǒng)。立式退火爐主要適合于8英寸工藝硅片的處理。 ..
    08月29日
  • 氧化鉀擴(kuò)散爐磷硼擴(kuò)散爐稀有金屬熱處理爐砷化鎵提純爐
    888.00元
    主要技術(shù)指標(biāo)： ★ 爐管數(shù)：1～4管 ★ 配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸) ★ 恒溫區(qū)長度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃) 760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃) ★ 單點(diǎn)穩(wěn)定性： ±1...
    08月29日
  • 程控?cái)U(kuò)散爐
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅 片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..
    11月08日
  • 雙管擴(kuò)散爐
    55000.00元
    雙管擴(kuò)散爐的應(yīng)用領(lǐng)域： 主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料的擴(kuò)散、氧化工藝，也可以用于玻璃對(duì)金屬的封裝焊接，石英制品的熱處理、LED發(fā)光粉體材料的煅燒等工藝。 主要特點(diǎn)： 1.采用高純石英管
    12月16日
  • 半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐
    45000.00元
    特點(diǎn)： 1.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐采用高純石英管作為內(nèi)爐膛，具有良好的潔凈度 2.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的耐火、保溫材料全部采用先進(jìn)的輕質(zhì)纖維制品，整機(jī)能耗低，升溫快 3.半導(dǎo)體材料擴(kuò)散爐的
    12月16日
  • 全球與中國市場擴(kuò)散爐趨勢(shì)展望與投資機(jī)遇分析報(bào)告2017年版
    面議
    全球與中國市場擴(kuò)散爐趨勢(shì)展望與投資機(jī)遇分析報(bào)告2017年版 ※※※鴻※※※晟※※※信※※※合※※※研※※※究※※※院※※※※ 【最新修訂】：2017年10月 【出版機(jī)構(gòu)】：鴻晟信合研
    10月23日
  • 氧化擴(kuò)散爐，青島福潤德
    面議
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    10月29日
  • 氧化擴(kuò)散爐
    面議
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    11月09日
  • 氧化擴(kuò)散爐
    面議
    氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn)： ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置，有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windows xp全中文視窗操作系統(tǒng)，可儲(chǔ)存1000條曲線，每條曲線設(shè)置30步 ◆自動(dòng)..
    11月08日
  • 鋁氧化線設(shè)計(jì)/陽極氧化線銷售/全自動(dòng)氧化線生產(chǎn)
    8452.00元
    陽極氧化工藝設(shè)計(jì) 鋁氧化線設(shè)計(jì)/陽極氧化線銷售/全自動(dòng)氧化線生產(chǎn) 上掛→酸洗除油（洗去表面油污）→水洗→堿蝕（洗去進(jìn)一步去污，并清除表面自然氧化膜）→水洗→中和（去除表面
    05月04日
  • 擴(kuò)散爐-高溫?cái)U(kuò)散爐-第四代半導(dǎo)體工藝設(shè)備
    888.00元
    設(shè)備用途：擴(kuò)散爐用于大規(guī)模集成電路、電力電子、光電器件、光導(dǎo)纖維等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝。 設(shè)備特點(diǎn)：單元組合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機(jī)的基礎(chǔ)上配氣源柜、超凈..
    08月29日
  • 太陽能光伏擴(kuò)散爐觸摸屏
    面議
    太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對(duì)125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。? 技術(shù)指標(biāo)： 可處理硅片尺寸：125mm×125mm..
    11月04日
  • 福潤德微控?cái)U(kuò)散爐
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微..
    11月04日
  • 福潤德微控?cái)U(kuò)散爐
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。 主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控..
    10月29日
  • 程控?cái)U(kuò)散爐，福潤德
    面議
    擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對(duì)所加工的硅 片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工..
    10月29日
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