EDI模塊的維護(hù)主要是針對出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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（1）常用配件如EDI樹脂、陰陽膜片、陰陽極板、框架隔板密封圈等，均******產(chǎn)品，延長膜塊的使用壽命。

（2）常見問題如EDI氧化、EDI接頭斷裂、內(nèi)部發(fā)熱燒壞、純水室污堵、濃水室積垢、隔板漏水、內(nèi)部老化等造成的EDI水質(zhì)下降、流量下降、漏水漏電等，均能夠有效修復(fù)，修復(fù)后EDI膜塊的性能和質(zhì)量均能達(dá)到甚至超過原品。

-LXM30Z運行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見下面說明）
說明：實際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

EDI電源有什么作用？

　　EDI電源為配套水處理EDI模塊直流電源。無論是單模塊系統(tǒng)或多組模塊系統(tǒng)，該電源配套使用為一個EDI模塊配一組立電源系統(tǒng)的一對一工作方式，確保每個EDI模塊具有立的電源供給系統(tǒng)。該EDI電源的交流供電系統(tǒng)可以配裝交流控制部分，以實現(xiàn)與EDI前端設(shè)備的程序控制；EDI在水處理系統(tǒng)正常情況下才能實現(xiàn)交流供電。不致因斷水、壓力過高、進(jìn)水水質(zhì)差等情況下供電，這種情況下切斷 EDI 電源的交流電源。同時，該電源本身配置了斷水保護(hù)電路，在典型安裝 中，保護(hù)電路中連接一個或多個水流繼電器，當(dāng)沒有水時，系統(tǒng)或模塊 全部或個別缺水時，防止EDI電源送電。這個操作沒有切斷交流電源。EDI電源可以輸出不同的電壓、電流等級，為配套各種型號CEDI模塊提供選擇。

阻垢劑投加裝置報價

如何運行和維護(hù)阻垢劑加藥裝置呢？

1、清洗攪拌槽，廢水從槽出口排出。

2、檢查攪拌裝置安裝是否平穩(wěn)牢固。并檢查電源是否已打開。在投入使用分鐘，沒有噪音和運行平穩(wěn)是正常的。

3、檢查計量泵的安裝是否平穩(wěn)牢固?？纯措娫词欠耖_著。

4、檢查管子，頭發(fā)部件等是否安裝正確。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動 EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。